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如何找出這些由非預期光線所產生的能量，并試著以外加的光學元件吸收或阻擋這些光線，將是雜散光分析中至關重要的環節。 本文是三篇雜散光分析系列文章中的第一篇，將介紹如何將序列系統轉至非序列模式中，并觀察此時系統產生的雜散光。 簡介 一般情況下，在進行機構的設計之前，我們必須先考慮雜散光的影響。

因此，如何找出這些非預期的光線來源，并增添新的元件以吸收或阻擋這些能量，將會是雜散光分析環節的重要課題。本文是系列文章的第二篇，將介紹如何使用路徑分析（Path Analysis）功能和篩選字串（filter string）辨別雜散光的路徑。 簡介 我們已在 系列文章的第一篇 （點擊查看）介紹了觀察雜散光的基礎知識。

中使用ZOS-API進行光線追跡的批次處理 ZEMAX | 雜散光分析——第一篇 ZEMAX | 如何用 ZOS-API 創建用戶自定義分析 ZEMAX | 旋轉對稱不規則性（RSI）簡介

為適應我國光電行業飛速發展的需要，提高我國光學設計人員的專業水平，武漢宇熠將在2023年2月23日-24日舉辦線上培訓 —— 『Ansys Zemax 照明設計與雜散光分析』。 培訓將為大家系統性地介紹非序列模式的建模邏輯、光源建模、優化方法、雜散光分析等主題。

雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及其他重要功能。簡介在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量? 隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

為適應我國光電行業飛速發展的需要，提高我國光學設計人員的專業水平，武漢宇熠將在2023年9月21日-22日舉辦線上培訓 —『Ansys Zemax 照明設計與雜散光分析』。培訓將為大家系統性地介紹非序列模式的建模邏輯、光源建模、優化方法、雜散光分析等主題。

為適應我國光電行業飛速發展的需要，提高我國光學設計人員的專業水平，武漢宇熠將在2023年6月28-30日舉辦線下培訓 —— 『Ansys Zemax 照明設計與雜散光分析』。培訓將為大家系統性地介紹非序列模式的建模邏輯、光源建模、優化方法、雜散光分析等主題。

簡介 在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量? 隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

附件下載聯系工作人員獲取附件概要雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及支持特性。簡介在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題: 從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大? 反射超過四次的光線能傳遞多少能量?

使用 OpticsBuilder，機構工程師可以創建複雜的透鏡邊緣、安裝特徵和模組外殼，同時利用 Zemax 光線追跡直接查看這些元件如何影響光學性能。在這種情況下，鏡頭邊緣可能會為雜散光提供路徑以污染圖像。 OpticsBuilder 不僅可以在透鏡之間創建擋板，而且還允許設計團隊了解抑制雜散光源的有效性。

這個例子主要涵蓋了整個工作流程中的Speos部分，介紹了雜散光分析的概念，并演示了Speos的功能：Zemax Importer工具, light expert (LXP)光線追跡和序列檢測雜散光。操作流程概述上圖是使用Ansys工具分析相機系統雜散光的典型工作流程。工作流程可分為四個部分:1.

雜散光分析是光學和機械裝配驗證的重要步驟。本文演示了在非序列模式下使用過濾字符串功能的雜散光分析技術，以及支持特性。下載聯系工作人員獲取附件簡介 在進行雜散光分析時，光學設計工程師可能會問以下問題:從各種光學或機械表面反射產生的鬼影影響有多大?反射超過四次的光線能傳遞多少能量?隔板在限制探測器雜散光方面有多有效?

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對于高靈敏度的光學系統，盡可能多地建模這些雜散光現象將有助于準確地分析系統的性能。雜散光可以通過OpticStudio進行分析，在另一篇知識庫文章中進行了雜散光分析詳細步驟的介紹，但是分析眩光則需要預先進行設置。相反，普通光學成像系統只需要通過前向散射效應來分析眩光，如本文后半部分所示。準備進行分析的鏡頭我們要建立一個有保護平板的成像系統。

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類似地，儘管可以追蹤“非有效”的順序光線，但沒有計算出繞射效率，因此沒有辦法知道雜散光路中的功率比。Figure 1 在OpticStudio中設計 DOE /超穎透鏡的可能工作流程1.2 相位 -> 微觀結構 ->用POP + FDTD驗證為了解決先前流程的缺點，即在製造之前無法模擬系統性能，可以使用物理光學傳播（POP）和 FDTD 來精確計算PSF。

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設計實例Ansys Speos | 進行智能手機鏡頭雜散光分析Ansys Zemax | 如何設計光譜儀——理論依據

雜散光分析介紹40. 散射41. 雜散光分析工具42. Maksutov 雜散光分析43. 非序列鬼像分析44. 非序列系統公差分析45.

7月11日，Ansys 將推出「成像系統雜散光工作流更新」主題網絡研討會，介紹Ansys鏡頭雜散光解決方案的新進展，使用Zemax OpticStudio、Speos和Lumerical綜合考量鏡頭和CMOS特性，通過光線追跡、序列檢測等方法分析雜光來源，并對系統進行優化。講師：馬鎏學 | Ansys 高級應用工程師Ansys 高級應用工程師。